Pengaruh Waktu Penahanan Terhadap Karakteristik Lapisan Tipis ZnO yang Dideposisi dengan teknik Sol-gel Spin Coating

Penulis

  • M Mursal
  • I Irhamni
  • B Bukhari

DOI:

https://doi.org/10.23960/jtaf.v4i2.123

Abstrak

Telah dilakukan kajian tentang karakteristik lapisan tipis seng oksida (ZnO) yang dideposisi dengan teknik sol-gel spin coating. Penelitian ini bertujuan untuk meneliti pengaruh waktu penahanan terhadap karakteristik lapisan tipis ZnO. Pada penelitian ini, lapisan tipis ZnO dideposisi di atas substrat corning glass 7059, menggunakan zinc acetate sebagai prekursor dan etanol sebagai pelarut. Lapisan tipis ZnO yang terdeposisi dipanaskan (pre-annealing) pada temperatur 200 0C selama 15 menit, dan selanjutnya dilakukan proses annealing pada temperatur 700 0C dengan waktu penahanan divariasikan dari 10-50 menit. Untuk mengetahui karakteristik dan struktur dari lapisan ZnO, dilakukan pengujian menggunakan spektrometer Ultra violet-Visible (UV-Vis), dan Atomic Force Microscopy (AFM). Hasil penelitian menunjukkan bahwa nilai transmitansi lapisan ZnO relatif tinggi (70-80 %). Celah pita optik lapisan tipis ZnO menyempit dari 3,69-3,61 eV dengan bertambahnya durasi waktu penahanan dari 10-50 menit. Durasi waktu penahanan tidak memberikan pengaruh yang signifikan terhadap perubahan nilai koefisien absorpsi optik. Akan tetapi morfologi permukaan lapisan ZnO mengalami perbaikan dengan meningkatnya durasi waktu annealing.

##submission.downloads##

Diterbitkan

2016-07-16

Cara Mengutip

Mursal, M., Irhamni, I., & Bukhari, B. (2016). Pengaruh Waktu Penahanan Terhadap Karakteristik Lapisan Tipis ZnO yang Dideposisi dengan teknik Sol-gel Spin Coating. Jurnal Teori Dan Aplikasi Fisika, 4(2). https://doi.org/10.23960/jtaf.v4i2.123

Terbitan

Bagian

Articles